1、 靶材的定義

靶材是通過(guò)物理氣相沉積技術(shù)鍍膜的濺射源。在沉積鍍膜過(guò)程中，濺射源猶如靶子，受到離子束和電子束的轟擊，就像打靶一樣，所以就稱目標(biāo)濺射源材料為靶材 。

濺射靶材屬于靶材的一種，是通過(guò)磁控濺射技術(shù)，形成的高能離子束轟擊基體濺射源材料，使基體材料的原子被濺射出鍍?cè)诒砻娉练e成膜，這種被濺射鍍膜的材料就稱為濺射靶材 。濺射靶材的實(shí)物圖如下圖1所示:

圖1 濺射靶材實(shí)物圖

2、靶材的分類

根據(jù)靶材材料種類的不同，主要分為金屬靶材、合金靶材和陶瓷靶材 。

1）金屬靶材

鋁靶、銅靶、鉬靶、鎢靶等金屬濺射靶材。

2）合金靶材

鋁硅合金靶、鎳銅合金靶、鎳釩合金靶等高純合金濺射靶材。

3）陶瓷靶材

ITO 靶、氧化鋅靶、二氧化硅靶、二氧化鋯靶等陶瓷濺射靶材。

3、靶材的應(yīng)用

靶材作為一種鍍膜材料通過(guò)物理沉積或化學(xué)方法在基體表面生成一層薄膜，利用這層薄膜的良好光電、磁導(dǎo)和物理化學(xué)功能，可以制備出不同功能的電子元件和產(chǎn)品 。主要廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域中:

1）微電子領(lǐng)域

半導(dǎo)體電子產(chǎn)業(yè)在所有靶材的應(yīng)用領(lǐng)域中需求量最大。特別是隨著集成電路的發(fā)展，從小規(guī)模集成電路到大規(guī)模集成電路的轉(zhuǎn)化，大量需要高純靶材作為電路配線，提高計(jì)算機(jī)的運(yùn)算效率。并且在此領(lǐng)域?qū)Π胁牡囊笞罡撸粌H在純度上達(dá)到高純 5N 以上，并且在晶粒尺寸、內(nèi)部組織、織構(gòu)等方面有很高的要求。

2）顯示器

靶材也主要應(yīng)用于平面顯示器(FPD) 中，其中最常用的是液晶顯示器(LCD)。LCD 廣泛應(yīng)用于手機(jī)顯示屏、平板顯示屏和筆記本顯示屏，而液晶顯示屏主要采用濺射的方法制得 。因此濺射靶材在液晶顯示屏領(lǐng)域中起著重要的作用，其中 ITO 靶材在顯示器領(lǐng)域中迅速發(fā)展起來(lái)。

3）存儲(chǔ)

隨著現(xiàn)在計(jì)算機(jī)的應(yīng)用和信息技術(shù)的發(fā)展，對(duì)信息的儲(chǔ)存也至關(guān)重要。而靶材作為新型的磁光記憶材料，制備出磁光盤和硬盤的儲(chǔ)存器具有大容量、高致密度和壽命長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn)，將廣泛應(yīng)用于信息儲(chǔ)存產(chǎn)業(yè)中。

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