新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電（glow discharge）將氬氣（Ar）離子撞擊靶材（target）表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。凱澤金屬專業(yè)生產(chǎn)各類鈦靶材，以下分享濺射鍍膜的一些特點。

（1）金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

（2）在適當(dāng)?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

（3）利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。

（4）靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。

（5）較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。

（6）濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。

（7）基板與膜的附著強(qiáng)度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續(xù)表面擴(kuò)散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結(jié)晶膜。

（8）薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。

（9）靶材的壽命長，可長時間自動化連續(xù)生產(chǎn)。

（10）靶材可制作成各種形狀，配合機(jī)臺的特殊設(shè)計做更好的控制及最有效率。

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