隨著市場需求的變化，中高等靶材成為鍍膜行業(yè)必不可缺的部分，近年國內(nèi)的靶材行業(yè)發(fā)展迅速，靶材供應商紛紛加大研發(fā)和投入，廣東的靶材供應商發(fā)展勢頭強勁，中高等的靶材制造商在廣州實現(xiàn)量產(chǎn)。靶材產(chǎn)品的種類也越來越豐富 ：銀（Ag）靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻（NiCr）靶、鋅錫（ZnSn）靶、硅鋁（SiAl）靶、氧化鈦（TixOy）靶，鎳鉻靶等。

靶材在玻璃上的另一個重要應用是制備汽車后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。由于汽車后視鏡檔次要求的不斷提高，這些企業(yè)紛紛從原來的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍鉻工藝。

伴隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎材料，已得到從未有過的發(fā)展，靶材市場規(guī)模日益膨脹。國內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據(jù)客戶要求加工。

陶瓷靶材的特性要求：

（1）純度：陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大，純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好。幾年來，隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，對成膜面積的薄膜均勻性要求十分嚴格，其純度必須大于4N。平面顯示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的純度都大于4N。

（2）密度：為了減少陶瓷靶材的氣孔，提高薄膜性能，要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實，濺射顆粒的密度月底，放電現(xiàn)場就越弱，薄膜的性能也越好。

（3）成分與結(jié)構(gòu)均勻性：為保證濺射薄膜均勻，尤特在復雜的大面積鍍膜應用中，必須做到靶材成分與結(jié)構(gòu)均勻性好。

相信在不久的將來，國內(nèi)會有更多的靶材供應商，向國外中高等靶材市場發(fā)起一波強而有力的沖擊。

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