為了降低旋轉磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠家和學者共同對靶材結構進行了研究。研究結果表明，通過調整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高鈦靶材利用率和靶材的刻蝕寬度，這樣靶材利用率能達到40%左右，而傳統的靶材利用率不到30%。

有學者提出了一些結構簡單可靠度高的新型陰較靶結構：旋轉陰較靶結構，其中磁靴由磁靶板、外磁鐵和中心磁鐵組成， 其中靶板是一個和鎳靶同直徑的環形軟鐵圓盤， 短環形的外磁鐵安裝在磁靶板的邊緣，中心磁鐵是由 FeNdB 材料制成的永磁體，被偏心安裝在磁靶板上。磁靶繞著靶的中心線旋轉，并帶動中心磁鐵繞著靶材的中心線偏心旋轉，磁力線在中心磁鐵和短外磁鐵之間形成閉合回路，使靶面的磁力線分布擴寬，增加了濺射面積。

同時，研究結果也表明，磁靶傾角的增加，磁流密度分布擴展且均勻性增強，刻蝕區域朝著靶材外方向變寬。靶材廠家還比較了旋轉時兩種不同形狀的外磁靶對靶材刻蝕形貌和利用率的影響，研究表明，當利用圓形外磁靶時，隨著磁靶傾角由0?增至8?，靶材利用率從60%到80%呈線性增加。當外磁靶是橢圓形時，靶材的平均利用率為70%，而與磁靶的傾角無關。在相同的磁靶角度下，橢圓形磁靶的刻蝕速率是圓形磁靶刻蝕速率的1.2倍，因此可以根據不同的工藝參數選擇合適的磁靶傾角和外磁靶形狀。

數據表明：旋轉陰較靶結構的靶材，其利用率比平面結構的靶材的利用率高。在未來的研究領域中，磁控濺射技術與表面工程技術、機械工程等技術的結合成為必然趨勢，如何從結構改良和表面處理著手來提高靶材表面材料特性， 增加換熱效果，提高靶材利用率以及有效提高生產線換靶效率將成為靶材廠家研究的方向。

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