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凱澤金屬談濺射鈦靶材的應(yīng)用特點

發(fā)布時間:2021-05-19 11:41:30 瀏覽次數(shù) :

使用大量鈦靶材的行業(yè)主要包括半導(dǎo)體集成電路,平板顯示器,太陽能電池,磁記錄介質(zhì),光學(xué)器件等(這些材料按用途分類)。 其中,高純度濺射靶材主要用于材料的純度。要求更高穩(wěn)定性的領(lǐng)域,例如半導(dǎo)體,平板顯示器,太陽能電池,磁記錄介質(zhì)等。

鈦靶材

在所有應(yīng)用中,半導(dǎo)體對濺射靶材具有較高的技術(shù)要求和純度,并且它們也是較昂貴的。 在這方面的要求明顯高于其他應(yīng)用領(lǐng)域,如平板顯示器和太陽能電池。 在純度,內(nèi)部微結(jié)構(gòu)等方面設(shè)定了極其嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。如果濺射靶材的雜質(zhì)含量過高,則形成的膜將無法滿足使用所需的電性能,并且在加工過程中容易在晶片上濺射工藝、薄膜上形成的顆粒會引起短路或電路損壞,從而嚴(yán)重影響薄膜的性能。

芯片制造對濺射目標(biāo)金屬純度的較高要求通常達(dá)到99.9995%以上,而平板顯示器和太陽能電池分別要求99.999%和99.995%。

除了純度外,該芯片還為濺射靶材的內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)設(shè)定了極其嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。 經(jīng)過長期的實踐,有必要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù),并生產(chǎn)出符合工藝要求的產(chǎn)品。

超高純金屬和濺射靶材是電子材料的重要組成部分。 濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純,靶材制造,濺射鍍膜和終端應(yīng)用。 其中,靶材制造和濺射鍍膜是整個濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

以上就是凱澤金屬為大家講解的濺射靶材的應(yīng)用的相關(guān)知識,希望對大家有所幫助。

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