鋁合金是我們?nèi)粘Ｉ钪凶顬槭煜さ慕饘俨牧现唬哂忻芏刃　⒈葟?qiáng)度高、導(dǎo)電與導(dǎo)熱性好等優(yōu)良性能，工程應(yīng)用廣泛。但同時(shí)鋁合金也存在抗腐蝕性能差，硬度較低、易磨損等不足。因此，對(duì)鋁合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，進(jìn)而提高其綜合性能，具有廣闊的工業(yè)應(yīng)用前景。

運(yùn)用射頻增強(qiáng)磁控濺射技術(shù)在 7075 鋁合金表面沉積氮化鈦薄膜，并系統(tǒng)研究了氣體流量配比、濺射電流、射頻功率和基體偏壓等工藝參數(shù)對(duì)沉積膜層結(jié)構(gòu)及性能的影響。使用小掠射角 X 射線衍射儀對(duì)膜層相結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析，使用光學(xué)顯微鏡和掃描電子顯微鏡對(duì)膜層表面形貌和截面進(jìn)行觀察，通過鹽霧腐蝕實(shí)驗(yàn)和電化學(xué)腐蝕實(shí)驗(yàn)測(cè)試評(píng)估樣品表面的耐腐蝕性能。

此外，對(duì)薄膜力學(xué)性能和摩擦性能進(jìn)行了測(cè)試分析。TiN 薄膜呈現(xiàn)明亮的金黃色，表面均勻平整，缺陷較少。經(jīng) GXRD 掃描分析，膜層存在 TiN (111)、(200)和(220)取向。研究發(fā)現(xiàn)氮?dú)馀c氬氣的流量配比是制備 TiN 薄膜的關(guān)鍵，濺射電流直接關(guān)系著靶材的濺射率，影響著膜層成分，電流較大時(shí)膜層中出現(xiàn)了 Ti 相。

7075 鋁合金表面沉積 TiN 薄膜可以明顯改善表面力學(xué)性能。在直流偏壓-40V~-60V，射頻功率 100W~200W 范圍內(nèi)最有利于膜層力學(xué)性能的提高。其中偏壓-60V，射頻功率 200W，濺射電流 0.7A 條件下樣品的表面顯微硬度最高(311HV)，比基體提高了 80％。基體偏壓對(duì)摩擦性能影響較大，在直流偏壓-40V，射頻功率 200W，磁控電流 0.7A 的條件下，樣品摩擦性能提高顯著。

鍍膜后樣品的耐腐蝕性能得到了提高。100W~200W 射頻功率下的樣品，耐腐蝕性能提高最顯著，在偏壓-30V，射頻功率 200W，磁控電流 0.7A條件下的樣品，經(jīng)腐蝕實(shí)驗(yàn)后表面形貌變化不大，電化學(xué)腐蝕電位相對(duì)于鋁合金基體提高了到 115mV，腐蝕電流降低了兩個(gè)數(shù)量級(jí)。