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鎳靶


電子與半導體工業用鎳靶材

電子與半導體工業用鎳靶材

鎳靶材是電子與半導體工業中不可或缺的關鍵基礎材料。在物理氣相沉積(PVD)工藝中,鎳靶作為濺射源,其高純度的原子被轟擊后沉積在晶圓或基板上,形成各種關鍵的導電、導磁或阻擋層... 【詳情】
磁記錄用鎳靶材

磁記錄用鎳靶材

磁記錄用鎳靶材,作為物理氣相沉積(PVD)技術的核心濺射源材料,專用于在磁盤、磁帶或傳感器基片上制備具有特定磁性能的功能性薄膜。隨著數據存儲密度從傳統水平記錄向垂直磁記錄... 【詳情】
半導體制造用鎳靶材

半導體制造用鎳靶材

半導體制造用鎳靶材是以高純度鎳(≥99.95%)或鎳基合金(如鎳鎢、鎳鈷)為材質?,通過物理氣相沉積(PVD)或化學氣相沉積(CVD)制備的薄膜材料?,具備高導電性、耐腐蝕性、熱穩定性及優異機械性能?,需滿足高純度(≥99.95%)、高致密度(≥98%)及表面無缺陷等標準?,主要應用于半導體導電層/阻擋層、光伏電池背電極及智能玻璃涂層等領域?。... 【詳情】
工件涂層鎳靶材

工件涂層鎳靶材

產品名稱:鎳靶材、鎳旋轉靶,鎳平面靶,鎳多弧靶牌號:N6, N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
鍍膜工業用鎳靶材

鍍膜工業用鎳靶材

產品名稱:鎳靶材、鎳旋轉靶,鎳平面靶,鎳多弧靶牌號:N6, N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
磁存儲介質用鎳靶材

磁存儲介質用鎳靶材

產品名稱:鎳靶產品材質:Ni產品規格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度:99.99%產品應用:電子半導體,晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】
鎳多弧靶

鎳多弧靶

產品名稱:鎳靶(鎳多弧靶)產品材質:Ni產品規格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度:99.99%產品應用:鎳多弧靶廣泛應用于電子半導體,晶元及芯片、微電子... 【詳情】
鎳靶塊

鎳靶塊

產品名稱:鎳靶塊牌號:N6, N4用途:鎳靶塊主要用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
N4鎳靶

N4鎳靶

產品名稱:鎳靶產品材質:Ni產品規格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度:99.99%產品應用:電子半導體,晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】
鎳靶管

鎳靶管

產品名稱名稱:鎳靶材、鎳旋轉靶,鎳靶管牌號:N6, N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
高純鎳靶材

高純鎳靶材

產品名稱:鎳靶材、鎳旋轉靶,鎳平面靶,鎳多弧靶牌號:N6, N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
鎳平面靶板

鎳平面靶板

名稱:鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號: N6、 N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
鎳靶

鎳靶

產品名稱:鎳靶產品材質:Ni產品規格:685.7 L x 127 W x 6 H mm (按客戶要求定制) (可提供背板綁定)純度:99.99%產品應用:電子半導體,晶元及芯片、微電子傳感器、航空航天、5G光電行... 【詳情】
鎳圓靶

鎳圓靶

產品名稱:鎳靶材、鎳旋轉靶,鎳平面靶,鎳多弧靶牌號:N6, N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
NiCu鎳銅合金靶

NiCu鎳銅合金靶

產品名稱:鎳銅靶材,鎳銅多弧靶,鎳銅旋轉靶,鎳銅平面靶牌號:NiCu用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
N4/N6鎳靶管

N4/N6鎳靶管

產品名稱名稱:鎳靶材、鎳旋轉靶,鎳靶管牌號:N6, N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
N6鎳靶板

N6鎳靶板

名稱:鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉靶管牌號: N6、 N4用途:用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層,玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】
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