鉻靶材是裝飾與工具功能性鍍膜領域的核心基礎材料。通過物理氣相沉積（PVD）技術，鉻或其化合物薄膜被賦予基材表面，實現從提升美觀度到強化機械性能的多種功能。該領域技術門檻相對較低，市場已完全國產化且競爭激烈。
一、 定義與材質
定義：裝飾與工具功能性鍍膜用鉻靶材，主要指用于磁控濺射、電弧離子鍍等PVD工藝，以金屬鉻或鉻合金為主要成分的固態靶材。在真空腔體內，高能粒子轟擊靶材表面，使鉻原子或離子被激發出來，沉積在工件（如五金件、刀具）表面，形成一層兼具裝飾外觀或卓越機械性能的薄膜。
主要材質：
高純鉻靶材：純度為99.5%至99.99%的金屬鉻靶。這是應用最廣泛的基礎材質，通過反應濺射可制備多種色彩的裝飾膜或高硬度的工具膜。
鉻合金靶材：為獲得特定性能而開發。
鎳鉻合金靶材：如用于Low-E玻璃及薄膜電阻的鎳鉻合金靶，其標準（YS/T 1635-2023）要求純度大于99.5%。
其他復合靶材：根據[cite]資料，在工具涂層中，鉻/硅（Cr/Si）、鉻/鋁（Cr/Al） 等合金靶材已被大量采用，以追求更佳的膜層機械性質。在裝飾領域，鈦鋯（Ti-Zr）、碳化鎢（WC） 等也與鉻靶協同使用，形成帶色澤的耐磨表面。
二、 性能特點
該領域對鉻靶材的性能要求，緊密圍繞其最終鍍層的功能展開，核心在于色彩可控性、鍍膜穩定性、高硬度與強附著力。
優異的膜層色彩與光學性能：純鉻靶通過反應濺射（通入氮氣、氧氣、碳氫氣體等），可形成金黃、古銅、槍黑、烏黑等多種色調。開發新色彩能力是行業競爭的關鍵。對于黑色薄膜，要求光學參數L值低（如<35），且色度坐標a、b值接近中性。
高硬度與卓越的耐磨性：鉻的氮化物（如CrN）、碳化物（如CrC）薄膜具有極高的硬度，是工具鍍膜的核心。膜層厚度一般為2-10μm，要求高硬度、低磨損、耐沖擊。
良好的膜基結合力與耐腐蝕性：鉻膜與多種基材（金屬、陶瓷）附著力強，且其本身具有優異的抗氧化和耐腐蝕性能，能有效保護基體，延長工件壽命。高品質黑色裝飾膜的附著力可達最高等級（5B級），耐磨次數超過5000次。
環境友好性：與傳統電鍍硬鉻工藝相比，PVD鍍鉻技術無廢液排放，是一種清潔的表面處理技術，符合環保趨勢。
對靶材純度與致密度的基礎要求：雖然純度要求（通常99.5%-99.9%）遠低于半導體領域，但高純度和高致密度仍然是保證濺射過程穩定、減少顆粒污染、獲得均勻優質薄膜的基礎。
三、 執行標準
該領域靶材通常遵循基礎材料標準，并高度重視下游客戶的定制化規格。
行業與團體標準：對于特定合金靶材，有相應的標準出臺，如《YS/T 1635-2023 鎳鉻合金靶材》，規定了用于低輻射玻璃等的鎳鉻靶材的技術要求。
企業標準與客戶協議：由于裝飾和工具鍍膜產品多樣、需求各異，靶材的尺寸、形狀（平面靶、旋轉靶）、綁定方式及具體的成分微調，主要依據鍍膜廠家或終端品牌商的定制化技術協議。這使得產品具有高度的靈活性和針對性。
四、 加工工藝、關鍵技術及流程
高品質鉻靶材的制備關鍵在于實現高密度、高純度與微觀組織均勻性。
1. 核心加工流程：
原料（高純金屬鉻或合金配料）→ 成型制備（核心環節） → 熱處理（燒結或熱等靜壓）→ 機械加工（切割、車銑至精確尺寸）→ 背板焊接（與銅、鋁背板通過釬焊等方式結合）→ 表面處理與清洗 → 檢測與包裝。
2. 主要制備工藝與技術：
粉末冶金工藝：這是制備鉻靶材，尤其是合金靶和復合靶的主流方法。將高純鉻粉或合金粉末經過壓制、燒結（或熱等靜壓）制成高密度坯料。該工藝能有效解決鉻金屬脆性大、難熔鑄的問題，并易于實現成分均勻化。
熔煉鑄造工藝：對于高純鉻靶，可采用真空熔煉（如電子束熔煉）后鑄造、鍛造的工藝。但純鉻熔煉難度大，對設備要求高。
關鍵技術突破：傳統粉末冶金法使用電解鉻粉，成本高且需要昂貴的熱等靜壓設備。有新技術嘗試采用成本更低的鋁熱法鉻錠為原料，通過優化工藝路線來降低生產成本和周期。
五、 具體應用領域
| 應用領域 | 具體功能與作用 | 技術要求與工藝特點 |
| 高端裝飾鍍膜 | 1. 色彩裝飾：用于衛浴五金、門鎖、表殼、眼鏡架、手機中框等，提供仿金、槍黑、玫瑰金等持久亮麗的色彩，兼具耐磨抗刮特性。
2. 功能性黑膜：用于高端汽車裝飾件、醫療器械等，要求薄膜不僅顏色深邃（超黑低反射），且硬度高、附著力強。 | 色彩重現性與一致性是核心。工藝上常采用反應磁控濺射，精確控制反應氣體流量與功率。需解決靶材“中毒”導致的工藝不穩定問題。膜厚通常在1μm以下。 |
| 精密工具與模具鍍膜 | 1. 切削工具：在鉆頭、銑刀、齒輪刀具、絲錐等表面鍍覆CrN、CrAlN等硬質膜，大幅提高硬度、耐磨性和使用壽命。
2. 成型模具與機械部件：用于沖模、頂頭、注塑模具以及機械手關鍵部件，降低摩擦系數，提供防腐保護，增強熱穩定性。 | 追求膜層的極限機械性能。要求膜層與工具基體有極高的附著力，避免在沖擊載荷下剝落。常采用高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS） 等先進技術，以獲得更致密、結合力更強的膜層。 |
六、 與其他領域用鉻靶材的對比
| 對比維度 | 裝飾與工具鍍膜 | 半導體與微電子 | 光伏能源 | 磁記錄與儲能 | 航空航天 |
| 核心要求 | 色彩美學、高硬度、強附著力、高性價比。 | 極致純度（5N以上）、納米級均勻性、超低缺陷。決定電路性能與良率。 | 良好的導電性、與襯底附著力、成本控制。常用作阻擋層或背電極。 | 極致的磁性能、超平滑表面、特定晶體取向。 | 極端環境下的耐高溫、耐腐蝕、耐磨損及可靠性。 |
| 典型材質與純度 | 純鉻（99.5%-99.9%）、鉻合金（如NiCr）。 | 超高純鉻（99.995%以上）、鉻硅化物等。 | 高純鉻、鉻合金。純度要求次于半導體。 | 高純鉻、鈷鉻合金等，對純度要求高。 | 高純鉻、鉻鋁合金等，強調力學與化學性能。 |
| 膜層性質 | 裝飾膜：?。?lt;1μm），色彩豐富。工具膜：厚（2-10μm），超硬耐磨。 | 極薄（納米級），具有特定的電學（導電/阻值）或阻擋性能。 | 功能性薄膜，用于導電、保護或光學調節。 | 納米級磁性薄膜，用于數據存儲。 | 防護性涂層，耐高溫氧化、抗燒蝕、抗沖刷。 |
| 技術門檻與格局 | 技術門檻最低，市場完全國產化，競爭激烈。認證周期短（數月）。 | 技術門檻最高，長期被日美企業壟斷，國內正攻關。認證周期極長（2-3年）。 | 門檻適中，國內企業憑借性價比已占據主導。 | 門檻高，集中于少數專業企業。 | 門檻高，需滿足嚴苛的行業標準與認證，由頭部材料企業供應。 |
七、 未來發展新領域與方向
綠色清潔工藝與新材料開發：
針對傳統反應濺射制備黑色等裝飾膜時存在的靶中毒、工藝不穩定、腔體污染問題，開發新型非反應濺射的靶材（如碳基摻雜靶材）成為趨勢，以實現更綠色、穩定的鍍膜生產。
開發更多多元復合合金靶材（如Al/Cr/Si等），通過單一靶材實現薄膜性能的定制化與多功能集成，滿足更苛刻的應用需求。
先進鍍膜技術驅動靶材升級：
高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS） 等先進技術能獲得性能更優異的Cr膜層。這反過來要求靶材具有更高的純度、更均勻的微觀結構和更穩定的濺射性能，推動中高端靶材產品升級。
拓展至新興高端消費品與智能制造領域：
隨著消費升級，可穿戴設備（智能手表、耳機）、高端電子產品外殼、汽車智能內飾件等對兼具美學、觸感和耐久性的表面處理需求激增，為裝飾鉻靶材帶來新市場。
在智能制造領域，高性能工業機器人關節、精密傳動部件、半導體封裝模具等對長效減摩、防腐、耐疲勞涂層需求強烈，是工具類鉻基靶材的高增長方向。
產業鏈整合與可持續發展：
頭部企業通過整合“原料提純-靶材制造-廢舊靶材回收”鏈條，以保障供應鏈安全并降低成本。開發更經濟的制備工藝（如使用低成本原料）仍是行業重要課題。
